下記機種以外にも、ご要望に応じた特殊仕様を装備する特別機種の設計製作も承ります。
乾燥条件等については詳細を営業部まで何なりとご相談くださいますよう、お願い申し上げます。
また、下記内容は予告なく変更する場合がございますのでご了承願います。
遠赤外線の効力と風速のバランスにより高速処理が見込める装置です。
乾燥工程の時間短縮、省スペース化を図ることが可能です。
ラックごとの加熱処理の連続化を可能にした省力システムです。
棒状フィン付ヒータを使用し、効率よく加熱することが可能です。
装置の投入、排出口に自動開閉シャッタを設けることにより、
炉内の熱の損失と作業室の空調への悪影響を軽減します。
入口から出口までの熱均一性を実現する為、管型遠赤外線ヒータを採用しています。ステンレス製の反射笠により、エネルギーを無駄なく処理物に照射することが可能です。
基盤のキュア用に専用開発されたウィケットによる搬送、連続処理を行う装置です。
基盤の投入、排出を自動化する専用コンベヤを用意しております。
紫外線による乾燥装置です。
オプションで光量を均一化する調整板、遮光シャッタ(自動)を用意しております。